5月28日，三井化学宣布，将基于ASML的设计和技术，在岩国-大竹制铁工厂进行EUV防护膜的商业化生产，成为世界上第一家开始商业化生产的防护膜制造商。

为了满足EUV防护膜和其他与ICT相关的产品的需求，以满足客户对技术创新（例如不断完善的半导体）的需求，三井化学的目标是为改善人们的生活和社会做出广泛的贡献。

5G电信的最新趋势要求在智能手机中使用快速处理器。用于这些高级处理器的芯片现在必须具有7纳米或更小的线宽-真正推动了EUV光刻技术的普及，该技术可提供超短波长。

EUV防护膜可防止光罩受到灰尘污染，因此有助于在此类光刻工艺中提高生产率。

ASML是全球最大的半导体光刻设备供应商，是唯一成功开发EUV光刻设备和EUV防护膜的制造商。

自1984年首次推出用于光刻工艺的防护膜以来，三井化学一直在努力提高防护膜的质量，以适应半导体电路线宽度小型化的进步。三井化学在这里的工作表明，它积累了与围堵管理等相关的大量生产专业知识-现在已将其用于生产EUV防护膜。

展望未来，三井化学将通过与ASML合作，对EUV防护膜技术进行改进和创新，以跟上EUV光刻设备的发展。